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機(jī)械接觸式多晶硅測(cè)厚儀工作原理及操作步驟!

作者:中科電子 瀏覽: 時(shí)間:2025-03-26 15:52:46

信息摘要:

多晶硅材料測(cè)厚儀是專門用于測(cè)量多晶硅材料厚度的精密儀器,廣泛應(yīng)用于塑料薄膜、薄片、隔膜、紙張、箔片、硅片等各種材料的厚度精確測(cè)量。

多晶硅材料測(cè)厚儀是專門用于測(cè)量多晶硅材料厚度的精密儀器,廣泛應(yīng)用于塑料薄膜、薄片、隔膜、紙張、箔片、硅片等各種材料的厚度精確測(cè)量。濟(jì)南中科電子研發(fā)的“TCK-02測(cè)厚儀”其核心作用是快速、非破壞性地獲取材料的厚度數(shù)據(jù),確保產(chǎn)品質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性。


一、工作原理


機(jī)械接觸式多晶硅測(cè)厚儀通過(guò)探頭直接接觸材料表面,施加標(biāo)準(zhǔn)化的壓力(如17.5±1 kPa),利用高精度位移傳感器測(cè)量上下測(cè)量面之間的距離,從而計(jì)算厚度。其核心步驟包括:


探頭接觸:探頭自動(dòng)升降,以恒定壓力接觸樣品表面,避免人為誤差。


數(shù)據(jù)采集:傳感器實(shí)時(shí)檢測(cè)位移變化,分辨率可達(dá)0.1 μm,部分型號(hào)支持0.01 μm可選。


數(shù)據(jù)分析:系統(tǒng)自動(dòng)統(tǒng)計(jì)最大值、最小值、平均值及標(biāo)準(zhǔn)偏差,數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)、導(dǎo)出或打印。



二、操作步驟


1、準(zhǔn)備階段:


試樣處理:截取代表性多晶硅片,清潔表面。


設(shè)備校準(zhǔn):使用標(biāo)準(zhǔn)量塊或已知厚度的多晶硅片校準(zhǔn)儀器。


參數(shù)設(shè)置:根據(jù)多晶硅特性選擇壓力、接觸面積等參數(shù)。


測(cè)厚儀.jpg


2、測(cè)試階段:


放置試樣:將硅片置于測(cè)量頭下方,確保表面與測(cè)量頭平行。


啟動(dòng)測(cè)量:選擇手動(dòng)或自動(dòng)模式,測(cè)量頭降落并施加恒定壓力,記錄厚度值。


重復(fù)測(cè)量:多次測(cè)量取平均值以提高精度(建議多次測(cè)量)。


3、數(shù)據(jù)處理:


結(jié)果統(tǒng)計(jì):自動(dòng)計(jì)算最大值、最小值、平均值。


輸出與分析:通過(guò)打印機(jī)或電腦軟件導(dǎo)出數(shù)據(jù),分析厚度分布。



三、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)


濟(jì)南中科電子的TCK-02測(cè)厚儀 為核心代表,具備以下核心優(yōu)勢(shì):


1、高精度穩(wěn)定輸出:采用進(jìn)口傳感器,重復(fù)性誤差≤0.4 μm,適配多晶硅片、薄膜、金屬箔等多種材料。


2、智能操作界面:工業(yè)級(jí)彩色高清觸摸屏,支持多級(jí)權(quán)限管理,數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)、打印,歷史記錄一鍵追溯。


3、廣泛適用性:量程覆蓋0~12 mm,滿足光伏硅片(150~200 μm)、半導(dǎo)體晶圓(厚度偏差<±1 μm)等場(chǎng)景需求。


4、標(biāo)準(zhǔn)化設(shè)計(jì):嚴(yán)格符合GB/T 6618、ISO 534等20余項(xiàng)國(guó)內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn),適配全球市場(chǎng)要求。


結(jié)語(yǔ)


濟(jì)南中科電子的機(jī)械接觸式測(cè)厚儀,以技術(shù)創(chuàng)新為核心,助力企業(yè)實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)質(zhì)量控制。無(wú)論是追求效率的生產(chǎn)線,還是嚴(yán)謹(jǐn)?shù)膶?shí)驗(yàn)室,這些設(shè)備都能成為提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力的可靠伙伴。




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